Équipements du laboratoire de fabrication et caractérisation de microsystèmes.
| Équipement | Fonction |
|---|---|
| Aligneuse KS MJB3 | Permet de faire de la lithographie optique avec une résolution inférieure à 1 micron sur des substrats de 2 pouces de diamètre ou moins. |
| Aligneuse OAI | Permet de faire de la lithographie optique avec une résolution inférieure à 1 micron sur des substrats de 4 pouces de diamètre ou moins. Permet aussi de faire de la lithographie par impression. |
| Tournette Laurell | Étalement de la photo-résine. |
| Imprimante de matériaux DMP-2831 | Dépôt par écriture directe de polymères et semi-conducteurs organiques avec des résolutions de 10 microns. |
| Nanoscript de Nanoink | Système de dépôt par mouillage. Permet de faire le dépôt par écriture directe avec des résolutions de 100 nm. Il peut aussi être utilisé en mode AFM pour la caractérisation. |
| Évaporateur Alcatel | Système de dépôt par évaporation pour les métaux et les semiconducteurs organiques. |
| Banc de test optique | Système pour la mesure de l’électroluminescence |
| Microscope Nikon | Caractérisation optique. |
| Système quatre pointes | Mesures de résistivité. |
| Kithley 2400, 2601 | Mesures électriques. |
| Système de déposition de Parylène SCS PDS 2010 | Dépôt de couches nanométriques de parylène. |
| Système plasma Diener Plasma Systems | Traitement et gravure de matériaux organiques. |
| Profilomètre Dektak xT DXT-A | Mesure de la topographie nano et micro métrique de couches minces. |
Équipements du laboratoire de fabrication et caractérisation de microsystèmes.
| Équipement | Fonction |
|---|---|
| Analyseur de réseau PNA-X | Permet de mesurer les paramètres de circuits jusqu’à 50 GHZ. |
| Analyseur de spectre PSA | Permet de mesure le spectre électromagnétiques jusqu’à 50 GHz. |
| Puissance-mètre EPM | Permet de mesure la puissance d’un signal jusqu’à des fréquences de 50 GHz. |
| Station sous-pointes | Permet de sonder des circuits intégrés. Cet équipement est utilisé en conjonction avec l’analyseur de réseau et l’analyseur de spectre. |
| Photoplotter | Système d’impression de masque pour la réalisation de circuits imprimés. |
| Laminateur RLM419 | Système utilisé pour laminer la résine sur les circuits imprimés. |
| Développeur ultraviolet | Système utilisé pour développer la résine. |
| Système de lithographie Jet 34 D | Système pour faire la gravure du circuit imprimé. |
| Fraiseuse pour circuits imprimés | Système permettant de réaliser du micro-usinage de circuit et de boitier. |
Équipements du laboratoire de caractérisation de circuits intégrés.
| Équipement | Fonction |
|---|---|
| Oscilloscope - MSO71254C | Mesures temporelle de signaux analogiques et numériques hyperfréquence (<12.5GHz). |
| Générateur de signaux arbitraires - AWG7082C | Génération de signaux analogiques ou numériques hyperfréquences (<16GSps). |
| Système PXI | Caractérisation électrique et optique de MEMS. |
| Émulateur de canal - ACE MX2 | Émulation de canaux sans fils à multi entrées et sorties. |
| Plateformes de radio logiciel (USPR N210 et E210 + WARPv3) | Établissement de réseaux de communications sans-fil cognitifs et agiles. |
Équipements du laboratoire de caractérisation de systèmes optiques.
| Équipement | Fonction |
|---|---|
| Table optique de 8 pieds PTR12109-AL | Plateforme pour faire le montage et le test de systèmes intégrés optiques. |
| Micro-positionneurs Thorlabs Nanomax 300 MD630A | Système d’alignement nanométrique pour guides d’ondes optiques. |